CVD反応分科会主催第4回講習会
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「CVD・ALDプロセスの基礎」
開催趣旨
当会では，最先端の研究成果を共有し議論するシンポジウムに加えて，学生や若手社員など初学者向けにCVDプロセスの基礎を体系的に学習できる講習会を開催しています．今回は，CVDに加えて，産業界からの要望の多いALDや，計算科学の進展により強力なプロセス開発ツールとなってきた量子化学計算に関する講習も含めております．これからCVDを始める方も，更なる知識の習得を目指す方も奮ってご参加ください．
主 催 ： 公益社団法人 化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会，
CVD研究会，Cat-CVD研究会
日 時 ： 2020年12月14日（月) 9:30〜18:30
会 場 ： オンライン（Zoom）
プログラム
09:30〜09:35 開会挨拶 分科会代表 河瀬元明
09:35〜11:15 「反応速度論とCVDプロセスの反応速度解析」
河瀬 元明 氏（京都大学）
CVD 法の概要，CVD プロセスにおける輸送現象と化学反応のモデル化，
反応速度論，反応解析，流れと拡散
11:15〜11:45 「CVD反応器の形状と操作が製膜速度分布・膜質に及ぼす影響」
羽深 等 氏（横浜国立大学）
CVD 装置内の熱・流れと反応（観察・計算），種々装置の計算・解析例，
基本的な操作と構造の意味
11:45〜13:15 休憩
13:15〜13:45 「量産対応CVD装置の概要とシミュレーションを活用した設計・
開発」
川上 雅人 氏（東京エレクトロンテクノロジー
ソリューションズ(株)）
量産対応 CVD 装置，反応シミュレーション，枚葉式・複数枚バッチ式，
流れ解析
13:45〜14:45 「CVDにおける素反応の量子化学計算の方法と
素反応シミュレーションの実例」
松木 亮 氏（産業技術総合研究所）
量子化学計算，素反応，遷移状態理論，素反応シミュレーション
14:45〜15:15 「CVD・ALD原料の特性と原料選択の指針」
町田 英明 氏（気相成長(株)）
蒸気圧，反応性，揮発性，供給方法，輸送
15:15〜15:45 休憩
15:45〜17:25 「ALDの基礎と応用用途」
霜垣 幸浩 氏（東京大学）
速度論，反応ケミストリ，吸脱着，温度依存性，表面反応機構
17:25〜18:25 「MOVPEによる化合物半導体成長における製膜速度分布の制御」
杉山 正和 氏（東京大学）
化合物半導体エピタキシャル成長のシミュレーション，
選択成長とリアクタスケール分布のカップリング
18:25〜18:30 閉会挨拶
オーガナイザー
河瀬 元明（京都大学）
百瀬 健（東京大学）
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