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CVD反応分科会主催第5回講習会
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「CVD・ALDプロセスの基礎」 (PDF版案内)

主催: 反応工学部会CVD反応分科会,CVD研究会,Cat-CVD研究会
日時: 2022年12月9日(金) 9:00〜17:00
場所: Zoom ミーティング
参加費: (税込・10%対象、テキスト代を含む)

化学工学会CVD反応分科会法人賛助会員(1口につき1人無料,2人目以降は10,000円), 化学工学会CVD反応分科会個人会員(10,000円), 化学工学会反応工学部会会員(12,000円), 化学工学会会員(15,000円), CVD研究会会員(12,000円), Cat-CVD研究会会員(12,000円), 非会員(20,000円), 化学工学会学生会員(無料), その他学生(1,000円)
申込方法:

Doorkeeperよりお申し込み下さい.申込直後に確認メールを送りますので,doorkeeper.jpドメインからのメール受信を可能としておいてください. アクセスできない場合には,(1)氏名,(2)所属,(3)連絡先E-mail,(4)参加資格(所属学会等)を明記の上,cvd@scej.orgまでメールにてお申し込み下さい.

申込締切: 12月5日(月)

問い合わせ先: CVD反応分科会事務局 E-mail:cvd@scej.org
注意: ・参加費はクレジットカードにてお支払いください.
・支払いが終わりますと申込完了となり,"CVD反応分科会 via Doorkeeper "より申込完了通知メールが届きます.
・オンライン会議URLならびに講演資料は参加申込者にのみ開催日前日までにメールにてお送りいたします.
・領収書が必要な方は申込完了通知メールの「申し込み内容詳細」をクリックし,「領収書データを見る」より発行ください.
・参加者による録画,録音は一切禁止とします.
・講演内容のオンデマンド配信は行いません.
・懇親会は行いません.
開催趣旨:

当会では,最先端の研究成果を共有し議論するシンポジウムに加えて,学生や若手社員などの初学者向けにCVDプロセスの基礎を体系的に学習できる講習会を開催しています.今回は,CVDに加えて,産業界からの要望の多いALDや,計算科学の進展により強力なプロセス開発ツールとなってきた量子化学計算に関する講習も含めております.これからCVDを始める方も,更なる知識の習得を目指す方も奮ってご参加ください.

プログラム:
9:00〜9:05 開会挨拶
9:05〜10:45 反応速度論とCVDプロセスの反応速度解析 (京都大学) 河瀬 元明

CVD法の概要,CVDプロセスにおける輸送現象と化学反応のモデル化,反応速度論,反応解析,流れと拡散

10:45〜11:15 CVD反応器の形状と操作が製膜速度分布・膜質に及ぼす影響 (横浜国立大学) 羽深 等

CVD装置内の熱・流れと反応(観察・計算),種々装置の計算・解析例,基本的な操作と構造の意味

11:15〜11:45 量産対応CVD装置の概要とシミュレーションを活用した設計・開発 (東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ(株)) 川上 雅人

量産対応 CVD 装置,反応シミュレーション,枚葉式・複数枚バッチ式,流れ解析

11:45〜13:00 休憩
13:00〜14:00 CVDにおける素反応の量子化学計算の方法と素反応シミュレーションの実例 (産業技術総合研究所) 松木 亮 氏

量子化学計算,素反応,遷移状態理論,素反応シミュレーション

14:00〜14:30 CVD・ALD原料の特性と原料選択の指針 (気相成長(株)) 町田 英明

蒸気圧,反応性,揮発性,供給方法,輸送

14:30〜14:45 休憩
14:45〜16:25 ALDの基礎と応用用途 (東京大学) 霜垣 幸浩

速度論,反応ケミストリ,吸脱着,温度依存性,表面反応機構

16:25〜16:55 CVDによる粉体合成と粉体コーティング (広島大学) 島田 学

生成・合成の原理,装置の例,粉体(微粒子)の気中挙動とその制御

16:55〜17:00 閉会挨拶
オーガナイザー: 河瀬元明(京都大学),百瀬健(東京大学),杉目恒志(近畿大学)
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