| 主催 | 化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会 |
| 共催 | CVD 研究会 |
| 日程 | 令和3年6月8日(火) 9:30〜15:00 |
| 会場 | オンライン（Zoom） |
| 参加形態 | リアルタイム参加 |
| 参加費 | 化学工学会 CVD反応分科会法人賛助会員(無料)，
化学工学会 CVD反応分科会個人会員(2,000 円)，
化学工学会 反応工学部会会員(3,000 円)，化学工学会会員(4,000 円)，
CVD研究会会員(4,000円)，Cat-CVD研究会会員(4,000 円)，
フラーレン・ナノチューブ・グラフェン学会会員(4,000円)，
非会員(10,000 円)，学生(無料) |
| 申込方法 | Webサイト 第33回シンポジウム - CVD反応分科会 | Doorkeeperよりお申し込み下さい． |
| 申込締切 | 6月7日(月)正午 厳守（web開催の為，締め切り後の申し込みは一切できません．また，定員に達し次第，申し込みを終了いたします．） |
| 問い合わせ先 | CVD反応分科会事務局 E-mail：cvd@scej.org |
| 注意 |
- 参加費はクレジットカードにてお支払いください．
- 参加者による録画・録音は参加形態によらず一切禁止とします．
- 講演内容のオンデマンド配信は行いません．
- 会議URLならびに講演資料は参加申込者にのみ開催日前日にメールにてお送りします．
- 懇親会は行いません．
|
| 開催趣旨 | 原子層堆積法(Atomic Layer Deposition, ALD)は，原子一層レベルで精密に制御して製膜できる技術として，半導体分野を中心に開発されてきました．近年，スループットの向上や多様な製膜方式，製造装置，原料の開発に伴い，広範な分野へと応用が拡大されています．その一つに微粒子表面への均一な製膜を可能とする粉体ALDの技術があり，モバイル機器や自動車の電動化，さらに脱炭素に向けて重要な二次電池分野での活用が，特に海外で急速に広がっています．
本シンポジウムでは，粉体ALDの基礎から，最新の実験装置および製造装置，各種ALD材料系と原料，さらに電池材料を中心とした応用例を，国内外からトッププレイヤーを招き紹介します．粉体ALDの基礎と最新情報を共有し，今後の展望も議論したいと考えています．
|
| プログラム |
|
| 9:25〜9:30 |
開会挨拶 |
|
| 9:30〜10:10 |
1．「ALDx and PALD –Equipment and Process for Atomic Layer Deposition on Powders, Wafers, and Objects」（英語） |
|
（Forge Nano） Staci Moulton 氏 |
| 10:10〜10:50 |
2．「Better Batteries: PALD on Anode and Cathode Powders at 6,000 mT/yr and < $0.30/kg」（英語） |
|
（Forge Nano） Daniel Higgs 氏 |
| 10:50〜11:30 |
3．「固体電池における粉体表面層の重要性」 |
|
（物質・材料研究機構 エネルギー・環境材料研究拠点） 高田 和典 氏 |
| 11:30〜12:10 |
4．「Thermal-ALDを用いた窒化リン酸リチウム・固体電解質膜の均一形成」 |
|
（パナソニック(株)） 柴田 聡 氏 |
| 12:10〜13:00 |
Break |
| 13:00〜14:00 |
5．基調講演「室温原子層堆積法の開発と微粒子コーティングへの応用」 |
|
（山形大学 大学院理工学研究科） 廣瀬 文彦 氏 |
| 14:00〜14:40 |
6．「Powder Atomic Layer Deposition: A Materials Supplier Perspective」（英語） |
|
（Air Liquide）Christian Dussarrat 氏 |
| 14:40〜14:45 |
閉会挨拶 |
|
| シンポジウムオーガナイザー | 下山 裕介（東京工業大学 物質理工学院）
野田 優 （早稲田大学 理工学術院）
百瀬 健 （東京大学 工学系研究科）
百瀬 渉 （ALDジャパン） |
