| 主催 | 化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会 |
| 共催 | CVD 研究会，Cat-CVD研究会 |
| 日程 | 令和4年1月25日(火) 13:00〜18:05 |
| 会場 | オンライン（Zoom） |
| 参加形態 | リアルタイム参加 |
| 参加費(税込) | 化学工学会 CVD反応分科会法人賛助会員（無料），
化学工学会 CVD反応分科会個人会員（2,000円），
化学工学会 反応工学部会会員（3,000円），化学工学会会員（4,000円），
CVD研究会会員（4,000円），Cat-CVD研究会会員（4,000円），
非会員（10,000円），学生（無料） |
| 申込方法 | https://cvd-hannoubunkakai.doorkeeper.jp/events/130788よりお申し込み下さい．また，doorkeeper.jp ドメインからのメールを受信可能としておいてください．
アクセスできない場合には，(1)氏名，(2)所属，(3)連絡先E-mail，(4)参加資格(所属学会等)を明記の上，cvd@scej.orgまでメールにてお申し込み下さい． |
| 申込締切 | 1月17日(月)正午 厳守（web開催のため締め切り後の申し込みは一切できません．また，定員300名に達し次第，申し込みを終了いたします．） |
| 問い合わせ先 | CVD反応分科会事務局 E-mail：cvd@scej.org |
| 注意 |
- 参加費はクレジットカードにてお支払いください．
- 参加者による録画・録音は参加形態によらず一切禁止とします．
- 講演内容のオンデマンド配信は行いません．
- 会議URLならびに講演資料は参加申込者にのみ開催日前日にメールにてお送りします．
- 懇親会は行いません．
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| 開催趣旨 | デジタルトランスフォーメーション（DX）は広範囲の産業に浸透しつつあり，ものづくりの技術の向上や革新のためにも活用され始めています．化学による材料製造の分野では，主に材料自体の開発の推進に関わるマテリアルズインフォマティクスが注目を浴びていますが，各種ドライプロセスによる薄膜作製・加工，微粒子合成に携わる，ないしご興味をお持ちの当CVD反応分科会会員にとっては，プロセスに対する情報科学すなわちプロセスインフォマティクス（PI）への関心も高まっているのではないでしょうか．そこで，DXおよびPIの基礎知識と現状，次いでCVDやエッチングなどの材料プロセスに対する活用の概念や事例を紹介し，さらに今後の展望についての議論をする場として，本シンポジウムを企画しました．多くの方々のご参加をお待ちしております． |
| プログラム |
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| 12:30 |
開場 |
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| 13:00〜13:05 |
開会挨拶 |
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| 13:05〜14:05 |
1．（基調講演）「プロセス産業におけるAI活用とDX」 |
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（東京農工大学） 山下 善之 氏 |
| 14:05〜14:45 |
2．「材料創製技術を革新するプロセスインフォマティクス」 |
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（科学技術振興機構研究開発戦略センター） 福井 弘行 氏 |
| 14:45〜14:55 |
休憩 |
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| 14:55〜15:35 |
3．「機械学習を用いた薄膜作製プロセスの closed-loop optimization」 |
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（物質・材料研究機構） 大久保 勇男 氏 |
| 15:35〜16:10 |
4．「TEL開発AIツールによるプロセス最適化事例の紹介」 |
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（東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ株式会社） 伊藤 聡 氏 |
| 16:10〜16:20 |
休憩 |
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| 16:20〜17:00 |
5．「デジタルツインを用いた結晶成長プロセス最適化技術（SiC溶液成長を中心に）」 |
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（名古屋大学） 宇治原 徹 氏 |
| 17:00〜18:00 |
6．（展望講演）「プロセスインフォマティクスの進展」 |
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（明治大学）金子 弘昌 氏 |
| 18:00〜18:05 |
閉会挨拶 |
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| 参加者 |
99名 |
| シンポジウムオーガナイザー | 川上 雅人（東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ株式会社）
舩門 佑一（株式会社アルバック）
島田 学（広島大学）
杉目 恒志（近畿大学） |
