| 主催 | 化学工学会 反応工学部会 CVD 反応分科会 |
| 共催 | CVD 研究会，Cat-CVD研究会 |
| 日程 | 2023年3月13日(月) 11:00〜17:10 |
| 会場 | 京都大学東京オフィス会議室A, B（東京都千代田区丸の内1-5-1 新丸の内ビルディング 10階）とWeb開催（Zoom）のハイブリッド |
| 参加形態 | リアルタイム参加 |
| 参加費(税込) |
化学工学会 CVD反応分科会法人賛助会員（無料），
化学工学会 CVD反応分科会個人会員（3,000円），
化学工学会 反応工学部会会員（4,000円），化学工学会会員（5,000円），
CVD研究会会員（5,000円），Cat-CVD研究会会員（5,000円），
非会員（12,000円），学生（対面2,000円、オンライン無料） |
| 申込方法 | https://cvd-hannoubunkakai.doorkeeper.jp/events/151494よりお申し込み下さい．また，doorkeeper.jp ドメインからのメールを受信可能としておいてください．
アクセスできない場合には，(1)氏名，(2)所属，(3)連絡先E-mail，(4)参加資格(所属学会等)、(5)参加形態（対面参加、オンライン参加、午前オンライン＋午後対面，その他）を明記のうえ，cvd@scej.orgまでメールにてお申し込み下さい．
申込締切： 3月6日(月)正午 厳守（Web開催のため締め切り後の申し込みは一切できません．また，対面参加40名、オンライン参加300名の定員に達し次第，申し込み受付を終了いたします．） |
| 申込締切 | 6月27日(月)正午 厳守（web開催のため締め切り後の申し込みは一切できません．また，定員300名に達し次第，申し込み受付を終了いたします．） |
| 問い合わせ先 | CVD反応分科会事務局 E-mail：cvd@scej.org |
| 注意 |
- 参加費はクレジットカードにてお支払いください．
- 参加者による録画・録音は参加形態によらず一切禁止とします．
- 講演内容のオンデマンド配信は行いません．
- 会議URLならびに講演資料は参加申込者にのみ開催日前日にメールにてお送りします．
- 懇親会は行いません．
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| 開催趣旨 | 新しい薄膜材料の探索が加速される中、それをいかに作るかが問われている。計算科学は、実験で見えないプロセス過程をひとつひとつ理解しながら予測・最適化するために必要不可欠なツールとなった。中でも第一原理計算は未知の現象予測を可能にする強力な手法である。しかし、実際の薄膜プロセスでは、気相・表面・固相で多数の原子・分子が複雑にかかわっており、よりマクロな空間・時間スケールに拡張するための工夫が重要となる。本シンポジウムでは、スーパーコンピューターの活用や、計算手法のハイブリッド化、機械学習技術を取り入れた計算の効率化や実践的な最適化への取り組みなど、CVD法ならびに薄膜に関連した最新の計算科学手法と研究開発成果を紹介し、CVD分野における計算科学の有用性の現在と未来を議論する。 |
| プログラム |
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| 10:45 |
開場 |
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| 11:00〜11:05 |
開会挨拶 |
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| 11:05〜12:00 |
1．[オンライン]「GaN MOCVDにおけるプロセスインフォマティクスの進展」 |
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(九州大学) 寒川 義裕 氏 |
| 12:00〜13:00 |
休憩 |
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| 13:00〜13:55 |
2．[対面]「CVDプロセスと摩耗プロセスの全原子分子動力学シミュレーション」 |
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(東北大学) 久保 百司 氏 |
| 13:55〜14:55 |
3．[対面]「プラズマ照射下の空間ミクロかつ時間マクロな構造変化とモデルの進展」 |
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(核融合科学研究所) 伊藤 篤史 氏 |
| 14:55〜15:10 |
休憩 |
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| 15:10〜16:05 |
4．[対面]「アクティブラーニングによる機械学習力場自動生成と第一原理物性予測」 |
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(豊田中央研究所) 陣内 亮典 氏 |
| 16:05〜17:00 |
5．[対面]「反応モデルと機械学習によるバッチ炉CVD製膜の条件最適化」 |
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(東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ) 伏見 直茂 氏 |
| 17:00〜17:05 |
閉会挨拶 |
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| 参加者 |
54名（対面19名、リモート35名） |
| シンポジウムオーガナイザー |
玉置 直樹（キオクシア株式会社）
西田 哲 （岐阜大学）
河瀬 元明（京都大学） |
