化学工学会反応工学部会CVD反応分科会主催 ミニシンポジウム
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「薄膜評価・分析の基礎と最先端」
共催 CVD研究会
最先端の薄膜製造プロセスにおいては，薄膜の膜厚や組成などを単原子レベルで精密にコントロールすることが要求されています。それにともない，原子層レベルでの薄膜の厚さや組成などを分析する技術および結晶性や欠陥・ひずみなどを評価する技術が不可欠となっています。また，in situ かつリアルタイムに製膜プロセスを監視・制御することの重要性も増しています。本シンポジウムでは，このような薄膜評価・分析技術に関して，第一線でご活躍される著名な先生方と機器メーカーの開発担当者・研究者からご講演頂くことで、薄膜評価・分析技術の基礎から実用段階の最新技術動向および今後の展開をも議論する場となることを期待し，会を企画いたしました。
日時：平成23年6月10日(金) 10:30〜18:00 （終了後，懇親会を開催します．）
会場：京都大学 東京オフィス（品川インターシティA棟27階）
(http://www.kyoto-u.ac.jp/ja/tokyo-office)
講演プログラム
10:30〜11:15 「エピタキシャル膜の表面原子構造とin situ観察手法」
物質・材料研究機構 大竹 晃浩 氏
11:15〜11:40 「III-V化合物半導体エピタキシャル成長のin situ観察とデバイス応用」
東京大学 杉山 正和 氏
11:40〜12:05 「走査型プローブ顕微鏡の最前線と解析事例」
エスアイアイ・ナノテクノロジー(株) 山岡 武博 氏
12:05〜13:05 Lunch Time
13:05〜13:50 「非平衡プラズマの発光分光計測の原理と実践〜電子温度、ガス温度、ラジカル密度」
東京工業大学 赤塚 洋 氏
13:50〜14:15 「プラズマプロセスモニタリング装置の最前線 〜 プロセス監視と膜厚計測」
浜松ホトニクス(株) 増岡 英樹 氏，中野 哲寿 氏
14:15〜15:00 「光電子分光による薄膜解析：基礎から応用」
東京大学 尾嶋 正治 氏
15:00〜15:25 「表面分析の最前線及び解析事例」
アルバック・ファイ(株) 星 孝弘 氏
15:25〜15:40 Coffee Break
15:40〜16:25 「エピタキシャル膜のX線，電子線による構造解析」
大阪大学 酒井 朗 氏
16:25〜16:50 「X線による薄膜の構造評価と三次元ナノ形状の解析」
(株)リガク 中野 朝雄 氏
16:50〜17:35 「電子顕微鏡による薄膜の構造解析・化学分析」
東京大学 阿部 英司 氏
17:35〜18:00 「電子顕微鏡の最前線と解析事例」
日本電子(株) 遠藤 徳明 氏
18:20〜19:50 懇親会
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