CVD反応分科会主催第17回シンポジウム
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「貴金属薄膜・微粒子の合成プロセス」
主 催 ： 公益社団法人 化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会
共 催 ： CVD研究会
日 時 ： 2012年11月21日(水) 13:00〜17:45
会 場 ： 日本工業大学 神田キャンパス ３階多目的ホール
プログラム
12:30 参加受付開始
13:00〜13:05 開会挨拶
13:05〜13:50 「貴金属市場動向と新規貴金属プリカーサの開発」
田中貴金属 齋藤昌幸 氏
13:50〜14:35 「Cu配線向けCVD Ruライナーの成膜技術」
東京エレクトロン 石坂忠大 氏
14:35〜15:20 「CVD Coプロセスの応用」
アルバック 牛川治憲 氏
15:20〜15:40 Coffee Break
15:40〜16:25 「ULSI-Cu配線用Co(W)薄膜形成プロセスの開発とRuとの比較」
大陽日酸 清水秀治 氏
16:25〜16:55 「ホローカソードCVDを用いたオスミウムコーターの開発」
真空デバイス 平野修司 氏
16:55〜17:45 「金ナノ粒子の調製方法と触媒特性」
首都大学東京 春田正毅 氏
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