CVD反応分科会主催第22回シンポジウム
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「高機能保護膜の基礎と展開」
開催趣旨
現在，エレクトロニクス関係から食品関係まで，色々な分野で「保護膜」が用いられています。
本シンポジウムで取り上げる保護膜とは，基本的に，外部からの物理的刺激や化学的刺激から
内部の材料を保護する薄膜を指しますが，保護すべき材料に応じて，保護膜自体に求められる
特性は異なります。そのため，保護膜材料やその成膜方法は多種多様であります。但し，世に
出ている商品レベルにおいては，保護膜自体に非常に多くのノウハウが含まれており，その特定
の分野を研究・開発されている方々以外には，なかなかその本質を知ることができません。
今回は，様々な高機能保護膜について，材料や特性，成膜プロセス等を，各分野での専門家に
ご紹介頂きます。本シンポジウムが，各種保護膜に対する理解を深める機会になれば幸いです。
主 催 ： 公益社団法人 化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会
共 催 ： CVD研究会
日 時 ： 2014年1月29日（水) 13:10〜17:50
（終了後，懇親会（有料）を開催します。）
会 場 ： 早稲田大学 西早稲田キャンパス 62W号館 大会議室
（最寄駅：地下鉄 副都心線 西早稲田駅）
プログラム
12:30 参加受付開始
13:00〜13:10 開会あいさつ
13:10〜14:00 「ハイバリア性評価方法と国際標準化」
永井 一清 氏（明治大学）
14:00〜14:40 「パッケージ用透明蒸着フィルムについて」
松井 茂樹 氏（大日本印刷）
14:40〜15:00 休憩
15:00〜15:40 「ナノシート積層によるガスバリア膜の開発」
蛯名 武雄 氏（産業技術総合研究所）
15:40〜16:20 「Cu配線用バリア絶縁膜と製膜原料の設計」
清水 秀治 氏（大陽日酸株式会社）
16:20〜16:40 休憩
16:40〜17:10 「強誘電体メモリ(FRAM)における保護膜の開発」
恵下 隆 氏（富士通セミコンダクター）
17:10〜17:50 「フレキシブルデバイスのバリア膜性能および評価技術」
高橋 善和 氏（株式会社ＴＩ）
18:00〜19:30 懇親会（62W号館 中会議室）
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