CVD反応分科会主催第29回シンポジウム
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「流動層の基礎とCVD/ALDによる粉体材料の機能化」
開催趣旨 ：
材料・デバイスの高機能化および微細化に伴い，大きな表面・界面を持つ粉体材料の重要性が増しています．例えばリチウムイオン電池においては，エネルギー密度の増大と安全性の担保という相反する要求に応え，また全固体電池のレート特性を改善するべく，活物質の微粒子表面を薄く均一に粉体コーティングする技術が求められています．そこで，粉体を低コストで大量に均一に処理する主要な技術である流動層の基礎から先端材料の合成および原子レベルでの均一な被膜形成まで，ドライプロセスによる粉体材料の機能化を学び反応機構を議論する研究会を開催します．
主 催 ： 公益社団法人 化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会，
CVD研究会，Cat-CVD研究会，反応工学部会触媒反応工学分科会，
粉体工学会
日 時 ： 2018年11月9日（金) 13:00〜17:45
（終了後，懇親会（有料）を開催します。）
会 場 ： 東京工業大学キャンパス・イノベーションセンター 1階 国際会議室
プログラム
12:30 受付開始
13:00〜13:05 開会挨拶
13:05〜14:05 （基調講演）「流動触媒層の特徴と工業プロセスへの応用」
甲斐 敬美 氏（鹿児島大学）
14:05〜14:45 「プラズマCVD法によるDLCコーティング技術」
本多 祐二 氏（アドバンストマテリアルテクノロジー）
14:45〜15:25 「CVDの二次元場から三次元場への展開 - 流動層法による
高純度・長尺カーボンナノチューブの高収率合成」
野田 優 氏（早稲田大学）
15:25〜15:40 休憩
15:40〜16:20 「粉体へのALDコーティング概説 - 成膜方式と課題、
アプリケーション、世界の動向」
百瀬 渉 氏（ALDジャパン）
16:20〜17:00 「Particle ALD developments and opportunities」
Paul Lichty 氏（Forge Nano社）
17:00〜17:40 「室温原子層堆積法による微粒子上金属酸化物コーティング」
廣瀬 文彦 氏（山形大学）
17:40〜17:45 閉会挨拶
18:00〜19:30 懇親会（懇親会会場 シンポジウム会場と同じ）
参加費：一般：2,000円，学生：1,000円
シンポジウムオーガナイザー
川上 雅人（東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ）
島田 学（広島大学）
百瀬 渉（ALDジャパン）
野田 優（早稲田大学）
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