反応工学部会若手会第5回講演会

日時: 2012年9月18日 (火)
場所: 東北大学片平キャンパス
講演内容:
矢部 和雄 氏 (東京エレクトロン東北) 「低温SiO2のALD成膜」
川波 肇 氏 (産業総合技術研究所) 「高温高圧水・超臨界水を用いた有機合成にむけた取り組み」
尾上 薫 氏 (千葉工業大学) 「魅力ある工学者をめざして」