5th Domestic Meeting

Date: 18 September 2012
Venue: Katahira Campus, Tohoku University, Sendai
Program:
Kazuo Yabe (Tokyo Electron Tohoku) 「低温SiO2のALD成膜」
Hajime Kawanami (AIST) 「高温高圧水・超臨界水を用いた有機合成にむけた取り組み」
Kaoru Onoe (Chiba Inst. Tech.) 「魅力ある工学者をめざして」