2011年9月14〜16日に開催された（公）化学工学会第43回秋季大会シンポジウム「CVD・ドライプロセス ―構造・機能制御の反応工学―」（当分科会主催）にて発表された28件の講演から，優秀な発表をされた下記３名の若手研究者の方々に，CVD反応分科会奨励賞を授与することを決定致しました。本奨励賞の規約につきましては，こちらをご参照ください。
化学工学会反応工学部会CVD反応分科会
平成２３年度 若手奨励賞・学生奨励賞
若手奨励賞
百瀬健（東京大学） 「超臨界Cu薄膜堆積プロセスの体系的理解に基づくウェハスケール反応器設計」
学生奨励賞
福島康之（東京大学） 「SiC-CVDプロセス反応機構のマルチスケール解析」
学生奨励賞
増田竜也（東京大学） 「金属薄膜触媒を用いた化学気相成長法によるグラフェンの合成」
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