| 主催 | 化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会 |
| 共催 | CVD研究会, Cat-CVD研究会 |
| 日程 | 2025年8月29日(金) 13:00〜16:40（予定） |
| 会場 | Zoomによるオンラインリアルタイム配信 |
| 参加費(税込) |
化学工学会 CVD反応分科会法人賛助会員（無料），
化学工学会 CVD反応分科会個人会員（3,000円），
化学工学会 反応工学部会会員（4,000円），化学工学会会員（5,000円），
CVD研究会会員（5,000円），Cat-CVD研究会会員（5,000円），
非会員（12,000円），学生（オンライン無料） |
| 申込方法 | https://cvd42symposium.peatix.com/よりお申し込み下さい．また peatix.com ドメインからのメールを受信可能としておいてください．
アクセスできない場合には，(1)氏名，(2)所属，(3)連絡先E-mail，(4)参加資格(所属学会等)、(5)参加形態（対面参加、オンライン参加）を明記のうえ，cvd@scej.orgまでメールにてお申し込み下さい． |
| プログラム（予定） |
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| 12:45 |
Zoom開場 |
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| 13:00〜13:05 |
開会挨拶 |
東京科学大学 下山 裕介 |
| 13:05〜13:45 |
「半導体製造プロセスにおけるクリーン化技術」 |
オフィスシラミズ
白水 好美 氏 |
| 13:45〜14:25 |
「半導体ウェット洗浄におけるシミュレーション事例」 |
SCREENセミコンダクターソリューションズ
佐藤 雅伸 氏 |
| 14:25〜15:05 |
「半導体ウエハーの洗浄および乾燥工程に関する熱流体工学解析」 |
群馬大学
天谷 賢児 氏 |
| 15:05〜15:15 |
休憩 |
| 15:15〜15:50 |
「半導体の二流体スプレー洗浄時における静電気障害」 |
愛知工業大学
清家 善之 氏 |
| 15:50〜16:30 |
「超臨界乾燥技術」 |
レクザム
山内 守 氏 |
| 16:30〜16:40 |
閉会挨拶 |
CVD反応分科会代表
京都大学 河瀬元明 |
| シンポジウムオーガナイザー |
下山 裕介（東京科学大学），
清水 秀治（大陽日酸株式会社），
西田 哲（岐阜大学） |
