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CVD反応分科会 研究会開催のお知らせ

化学工学会CVD反応分科会 第39回シンポジウム
「二次元材料の合成と応用の最新動向と展望」

主催 化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会
共催 CVD研究会, Cat-CVD研究会
日程 2023年11月14日(火) 13:00〜16:50(予定)
会場 早稲田大学 西早稲田キャンパス 62号館W棟1階大会議室A,B(+Zoomによるオンライン)
参加費(税込) 化学工学会 CVD反応分科会法人賛助会員(無料), 化学工学会 CVD反応分科会個人会員(3,000円), 化学工学会 反応工学部会会員(4,000円),化学工学会会員(5,000円), CVD研究会会員(5,000円),Cat-CVD研究会会員(5,000円), 非会員(12,000円),学生(対面2,000円、オンライン無料)
申込方法 https://cvd-hannoubunkakai.doorkeeper.jp/events/161056よりお申し込み下さい.また,doorkeeper.jp ドメインからのメールを受信可能としておいてください.
アクセスできない場合には,(1)氏名,(2)所属,(3)連絡先E-mail,(4)参加資格(所属学会等)を明記のうえ,cvd@scej.orgまでメールにてお申し込み下さい.
申込締切 11月10日(金)正午 厳守(締め切り後の申し込みは一切できません.対面参加70名,オンライン参加300名の定員に達し次第,申し込み受付を終了いたします.)
問い合わせ先 CVD反応分科会事務局 E-mail:cvd@scej.org
注意
  • 参加費はクレジットカードにてお支払いください.
  • 参加者による録画・録音は参加形態によらず一切禁止とします.
  • 講演内容のオンデマンド配信は行いません.
  • 会議URLならびに講演資料は参加申込者にのみ開催日前日にメールにてお送りします.
  • 懇親会は行いません.
開催趣旨

グラフェンや遷移金属ダイカルコゲナイドに代表される二次元物質・材料は,その新奇な物性により新たな半導体デバイスを実現し得ると期待されています.2004 年のグラフェンの報告より,物質群,合成・加工・実装技術,応用などが大きく進展しました.今回のシンポジウムでは,これまでの領域発展のレビューから最新の成果のご紹介までを頂き,二次元材料の実用化に向けた展望を議論します.

プログラム
12:30 開場、受付
13:00〜13:05 開会挨拶
13:05〜13:45 「遷移金属ダイカルコゲナイドの合成と機能」 東京都立大学
宮田 耕充 氏
13:45〜14:25 「Symmetry-directed Epitaxy Growth of 2D TMDs on C-plane Sapphire」 東京大学
Vincent Tung 氏
14:25〜14:45 休憩
14:45〜15:25 「グラフェンのCVD CVD CVD 成長におけるリアルタイム観察技術とその活用」 NTT物性科学基礎研究所
小川 友以 氏
15:25〜16:05 「二次元材料/相転移材料ファンデルワールスヘテロ構造のデバイス応用」 関西大学
山本 真人 氏
16:05〜16:45 (基調講演)「1次元2次元半導体物質の戦略とCVD」 東北大学
齋藤 理一郎 氏
16:45〜16:50 閉会挨拶
シンポジウムオーガナイザー 杉目 恒志(近畿大学),玉置 直樹(キオクシア株式会社),野田 優(早稲田大学)

【協賛行事】第 34 回プラズマエレクトロニクス講習会 〜プラズマプロセスの基礎と先端応用技術〜

主催 応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会
協賛 日本物理学会、電気学会、プラズマ・核融合学会、日本化学会、電子情報通信学会、放電学会、日本真空学会、ドライプロセスシンポジウム、化学工学会 CVD 反応分科会(一部打診中)
日程 2023 年 11 月 17 日(金) 9:30〜17:45
会場 現地(JEC日本研修センター 心斎橋)・オンライン(Zoomウェビナー)のハイブリッド開催
内容

プラズマプロセスは、エレクトロニクス分野では先端デバイスの開発・製造を支える技術であるとともに医療やエネルギー・環境応用を始めとする幅広い分野でも欠くことのできない基盤技術となりつつあります。このような背景を踏まえ、本講習会では産業応用で必要とされるプロセスの基礎と高周波プラズマの生成制御について、プラズマ分野を代表する先生方からご講義を頂くと共に、その応用プロセスとして、半導体露光用EUV光源を構成するプラズマの計測技術や、近年ドライエッチング分野で最先端の話題である原子層エッチング(Atomic Layer Etching; ALE)技術、及び、機械学習のプラズマプロセス応用技術に関する話題も含め、第一線でご活躍の先生方よりご講義を頂きます。初学者から先端の研究開発者まで幅広い皆様のご参加をお待ち申し上げます。


 

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