CVD反応分科会は化学工学会反応工学部会内の一分科会として，CVDやエッチングなどの各種ドライプロセスによる薄膜作製・加工，微粒子合成などの反応機構の解析と制御を目指した研究活動を展開しています。
光・電子デバイス，MEMS，マイクロリアクターなどの形成において，そのプロセス技術の最適条件を経験的に探索するのではなく，反応機構の本質的な理解を深めた上での論理的な最適化を目指し，各種シミュレーション技術の利用なども検討すべきと考えています。
デバイスの機能を発現させる構造制御の科学を深耕し，各種応用分野への展開を図っています。
主な活動は，
年に３回程度主催するミニシンポジウム，
化学工学会秋季大会にて開催する「CVD・ドライプロセス」シンポジウムです。
これらに加えて，
数年に一度の講習会，
不定期に開催する講演会
といった行事を行っています。
分科会法人賛助会員の企業からは，
ミニシンポジウムには人数無制限で，
講習会には1名が，無料で参加になれます。
講演会は原則参加費無料で開催しています。
「CVD・ドライプロセス」シンポジウムに参加するには化学工学会秋季大会への参加登録が必要です。
また，本分科会とは別の組織である CVD研究会（http://cvd.jpn.org/）が主催する年に２回のCVD研究会セミナーや Cat-CVD研究会が主催する研究会を共催しており，CVD反応分科会の会員は割引価格で参加ができるようにしています。
幹事
| 代表 河瀬 元明（京都大学） |
| 副代表 霜垣 幸浩（東京大学） |
| 会計 西田 哲（岐阜大学） |
| 幹事 秋山 泰伸（東海大学） |
| 幹事 川上 雅人（東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ株式会社） |
| 幹事 齊藤 丈靖（大阪公立大学） |
| 幹事 島田 学（広島大学） |
| 幹事 清水 秀治（大陽日酸株式会社） |
| 幹事 下山 裕介（東京工業大学） |
| 幹事 杉目 恒志（近畿大学） |
| 幹事 杉山 正和（東京大学） |
| 幹事 玉置 直樹（キオクシア株式会社） |
| 幹事 野田 優（早稲田大学） |
| 幹事 羽深 等（元横浜国立大学） |
| 幹事 舩門 佑一（株式会社アルバック） |
| 幹事 町田 英明（気相成長株式会社） |
| 幹事 三宅 雅人（奈良先端科学技術大学院大学） |
| 幹事，反好会担当 百瀬 健（熊本大学） |
| 幹事 百瀬 渉（ALDジャパン株式会社） |
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