| 主催： | 反応工学部会CVD反応分科会，CVD研究会，Cat-CVD研究会，応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 |
| 日時： | 2024年12月5日(木) 8:45〜17:00 |
| 場所： | オンライン（Zoom ミーティング） |
| 参加費： |
(税込・10%対象、テキスト代を含む) |
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化学工学会CVD反応分科会法人賛助会員（1口につき1人無料，2人目以降は10,000円），
化学工学会CVD反応分科会個人会員（10,000円），
化学工学会反応工学部会会員（12,000円），
化学工学会会員（15,000円），
CVD研究会会員（12,000円），
Cat-CVD研究会会員（12,000円）， 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会会員（12,000円），
非会員（20,000円），
学生（無料）
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| 申込方法： |
Doorkeeperよりお申し込み下さい．申込直後に確認メールを送りますので，doorkeeper.jpドメインからのメール受信を可能としておいてください．
アクセスできない場合には，(1)氏名，(2)所属，(3)連絡先E-mail，(4)参加資格(所属学会等)を明記の上，cvd@scej.orgまでメールにてお申し込み下さい．
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| 申込締切： |
12月2日（月）正午
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| 問い合わせ先： |
CVD反応分科会事務局 E-mail：cvd@scej.org |
| 注意： |
・参加費はクレジットカードにてお支払いください．
・支払いが終わりますと申込完了となり，"CVD反応分科会 via Doorkeeper "より申込完了通知メールが届きます．
・オンライン会議URLならびに講演資料は参加申込者にのみ開催日前日までにメールにてお送りいたします．
・領収書が必要な方は申込完了通知メールの「申し込み内容詳細」をクリックし，「領収書データを見る」より発行ください．
・参加者による録画，録音は一切禁止とします．
・講演内容のオンデマンド配信は行いません．
・懇親会は行いません．
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| 開催趣旨： |
当会では，最先端の研究成果を共有し議論するシンポジウムに加えて，学生や若手社員などの初学者向けにCVDプロセスの基礎を体系的に学習できる講習会を開催しています．今回は，CVDに加えて，産業界からの要望の多いALDや，計算科学の進展により強力なプロセス開発ツールとなってきた量子化学計算に関する講習も含めております．これからCVDを始める方も，更なる知識の習得を目指す方も奮ってご参加ください．
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| プログラム： |
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| 8:45〜8:50 |
開会挨拶 |
| 8:50〜9:30 |
CVD反応と反応速度論 | （京都大学） 河瀬 元明 |
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CVD法の概要，反応速度論，反応解析 |
| 9:30〜10:00 |
CVD反応器の形状と操作が製膜速度分布・膜質に及ぼす影響 | （元横浜国立大学） 羽深 等 |
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CVD装置内の熱・流れと反応（観察・計算），種々装置の計算・解析例，基本的な操作と構造の意味 |
| 10:00〜11:00 |
CVDプロセスの反応速度解析 | （京都大学） 河瀬 元明 |
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CVDプロセスにおける輸送現象と化学反応のモデル化，反応速度解析，流れと拡散 |
| 11:00〜11:30 |
量産対応CVD装置の概要とシミュレーションを活用した設計・開発 | （東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ(株)） 川上 雅人 |
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量産対応 CVD 装置，反応シミュレーション，枚葉式・複数枚バッチ式，流れ解析 |
| 11:30〜13:00 |
休憩 |
| 13:00〜14:00 |
CVDにおける素反応の量子化学計算の方法と素反応シミュレーションの実例 | （産業技術総合研究所） 松木 亮 氏 |
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量子化学計算，素反応，遷移状態理論，素反応シミュレーション |
| 14:00〜14:30 |
CVD・ALD原料の特性と原料選択の指針 | （気相成長(株)） 町田 英明 |
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蒸気圧，反応性，揮発性，供給方法，輸送 |
| 14:30〜14:45 |
休憩 |
| 14:45〜16:25 |
ALD・ASDの基礎と応用 | （東京大学） 霜垣 幸浩 |
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ALD法の概要，理想特性とALD Window，選択成長（ASD），ALE（エッチング）の併用，その場観察 |
| 16:25〜16:55 |
CVDによる粉体合成と粉体コーティング | （広島大学） 島田 学 |
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生成・合成の原理，装置の例，粉体（微粒子）の気中挙動とその制御 |
| 16:55〜17:00 |
閉会挨拶 |
| オーガナイザー： | 河瀬元明（京都大学），杉目恒志（近畿大学） |
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