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CVD反応分科会シンポジウム開催記録

化学工学会CVD反応分科会 第42回CVD反応分科会シンポジウム
「半導体産業における洗浄・乾燥技術の最新動向」

主催 化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会
共催 CVD研究会, Cat-CVD研究会
日程 2025年8月29日(金) 13:00〜16:40
会場 Zoomによるオンラインリアルタイム配信
参加費(税込) 化学工学会 CVD反応分科会法人賛助会員(無料), 化学工学会 CVD反応分科会個人会員(3,000円), 化学工学会 反応工学部会会員(4,000円),化学工学会会員(5,000円), CVD研究会会員(5,000円),Cat-CVD研究会会員(5,000円), 非会員(12,000円),学生(オンライン無料)
申込方法 https://cvd42symposium.peatix.com/よりお申し込み下さい.また peatix.com ドメインからのメールを受信可能としておいてください.
アクセスできない場合には,(1)氏名,(2)所属,(3)連絡先E-mail,(4)参加資格(所属学会等)、(5)参加形態(対面参加、オンライン参加)を明記のうえ,cvd@scej.orgまでメールにてお申し込み下さい.
プログラム(予定)
12:45 Zoom開場
13:00〜13:05 開会挨拶 東京科学大学 下山 裕介
13:05〜13:45 「半導体製造プロセスにおけるクリーン化技術」 オフィスシラミズ
白水 好美 氏
13:45〜14:25 「半導体ウェット洗浄におけるシミュレーション事例」 SCREENセミコンダクターソリューションズ
佐藤 雅伸 氏
14:25〜15:05 「半導体ウエハーの洗浄および乾燥工程に関する熱流体工学解析」 群馬大学
天谷 賢児 氏
15:05〜15:15 休憩
15:15〜15:50 「半導体の二流体スプレー洗浄時における静電気障害」 愛知工業大学
清家 善之 氏
15:50〜16:30 「超臨界乾燥技術」 レクザム
山内 守 氏
16:30〜16:40 閉会挨拶 CVD反応分科会代表
京都大学 河瀬元明
シンポジウムオーガナイザー 下山 裕介(東京科学大学),
清水 秀治(大陽日酸株式会社)
西田 哲(岐阜大学)



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